水环真空泵在半导体行业中使用
半导体工艺真空主要用在蒸发,吸污水环泵厂,溅射,PECVD,真空干法刻蚀, 真空吸附,测试设备,真空清扫等等键合工序,半导体生产制造过程中容易产生以及有毒的物质气体,会对生产及人员安全造成威胁,因此,半导体水环真空泵应用时需要注意的几个安全事项: 1、定期清洗真空泵及其他附件、过滤、管道,避免**压:
半导体真空泵应用时,抽取介质过程中经过反应室与真空泵,其成分可能较为复杂,如SiH4与O2在泵口形成SiO2,TiCl4水解会形成HCl;假设是油封式机械泵,这些气体物质还可能与泵油发生化反。这些变化假设形成颗粒、可凝物或者腐蚀性介质,就可能堵塞真空泵或管路系统,影响真空泵性能,造成压力上升或**压,一点中提到的危险性也更大。所以需要及时的清洗,并在必要的时候设置过滤设备。。
水环真空泵是液环式真空泵中常见的一种。液环式真空泵是带有多叶片的转子偏心装在泵壳内。当它旋转时,把液体抛向泵壳并形成与泵壳同心的液环,液环同转子叶片形成了容积周期变化的旋转变容真空泵。当工作液体为水时,称水环泵。水环泵主要用于粗真空、抽气量大的工艺过程中。
单级水环泵的极限真空度可达8~2×103Pa,双级水环泵的极限真空度可达1×102Pa,排气量为0.25~500m3/h。 水环真空泵工作轮2在泵体1中旋转时形成了水环3和工作室5,水环与工作轮构成了月牙形空间。右边半个月牙形的容积由小变大,形成吸气室。左边的半个月牙形的容积由大变小,构成了压缩过程(相当于排气室)。被抽气体由进气管8和进气口4进入吸气室。转子进一步转动,使气体受压缩,经过排气口6和排气管7排出。排出的气体和水滴由排气管道7进入水箱10,此时气体由水中分离出来,气体经管管道9排到大气中,水由水箱进入泵中,或经过管道11排到排水设备中。 水环真空泵的压缩比由泵的吸气口终了位置和排气口开始位置所决定。因为吸气口终止位置决定着吸气腔吸入气体的体积;而排气口开始的位置决定着排气时压缩了的气体的体积。对已经确定了结构尺寸的水环泵,可以求出其压缩比。
2BEA系列水环真空泵及压缩机是我公司在长期科研的基础上,结合技术,不断实践验证研制开发的节能的新型产品。能用于抽吸不含固体颗粒,吸污水环泵型号,不溶于水,无腐蚀性气体,以便在密闭容器中形成真空和压力。通过结构材料的改变,亦可用于抽吸腐蚀性气体,吸污水环真空泵,腐蚀性液体,可广泛用于造纸、化工、石化、轻工、制药、食品、冶金、建材、电器、洗煤、选矿、化肥等行业。
2BEA系列水环真空泵采用单级单作用的结构形式,具有结构简单。维修方便、节能、运行可靠等优点,对关键部分泵轴、叶轮、分配板等优化了设计,无论是球铁叶轮还是冲压成型的焊接叶轮均经过良好的热处理,并在过盈热装前后,分别进行平衡及动平衡校验,吸污水环泵,运转更加平稳、抗冲击性更加优良,适应了排水量大,载荷冲击波动等恶劣工况。
2BEA系列水环真空泵,自带气水分离器,设有多位置进排气口,泵盖上增设了排气阀检修窗盖,装配和维修更加方便。